依据我院相关标准与客户实验要求难度协商后定价。

真空室结构: 圆筒形上升盖 真空室尺寸: φ450×350mm 极限真空度: ≤6.0E-5Pa 沉积源: 永磁靶3套，φ2英寸 样品尺寸，温度: φ2英寸,6片; φ4英寸,1片; 最高800℃ 占地面积（长x宽x高）: 约2米×1.5米×2米 电控描述: 全自动 工艺: 片内膜厚均匀性：≤±3%

用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。可广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料的科研项目。

可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等，工艺性能稳定、模块化结构，采用行业领先的软件控制系统。